新研究：消耗臭氧層的氯氟烴濃度快速上升

新華社北京4月5日電一個國際研究團(tuán)隊日前在英國《自然·地球科學(xué)》雜志上發(fā)表報告說，2010年至2020年，地球大氣層中消耗臭氧層的5種氯氟烴(CFCs)濃度快速上升，部分來源可能指向生產(chǎn)氫氟碳化物(HFCs)產(chǎn)生的副產(chǎn)品。

　　過去數(shù)十年，全球保護(hù)臭氧層的努力取得一定進(jìn)展。國際社會于1987年通過蒙特利爾議定書，要求逐步淘汰使用氯氟烴等消耗臭氧層的化學(xué)物質(zhì)。作為代替物，氫氟碳化物目前已在許多應(yīng)用中取代了氯氟烴。

　　研究人員通過分析國際氯氟烴監(jiān)測網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)發(fā)現(xiàn)，5種會消耗臭氧層的氯氟烴物質(zhì)濃度迅速上升。其中，三氯三氟乙烷、二氯四氟乙烷和五氟一氯乙烷這3種氯氟烴的濃度上升可能是生產(chǎn)氫氟碳化物過程中出現(xiàn)的副產(chǎn)品；造成氟利昂-13和四氯二氟乙烷濃度上升的原因尚不明確。

　　研究人員表示，在目前的排放水平下，這5種氯氟烴的排放并未對臭氧層的恢復(fù)構(gòu)成太多威脅，但如果持續(xù)增加，將可能逆轉(zhuǎn)蒙特利爾議定書實施后取得的積極成果。

　　氯氟烴是一類只含氯、氟和碳的有機(jī)物，屬于氟利昂，其工業(yè)用途廣泛，被用作制冷劑和發(fā)泡劑、清潔劑等。氯氟烴一旦進(jìn)入大氣層，就會在平流層積累并消耗其中的臭氧，引發(fā)臭氧空洞。大自然不產(chǎn)生氯氟烴，大氣中出現(xiàn)的氯氟烴通常從制冷設(shè)備或是其他工業(yè)產(chǎn)品中泄漏出來。